著者典拠情報

標目形：
平尾, 孝||ヒラオ, タカシ
属性：
Personal
から見よ参照形：
Hirao, Takashi
注記：
博士論文 Studies on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings, 1989
金沢大学大学院自然科学研究科
松下電気産業(株)中央研究所(1992年4月現在)
EDSRC:薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝〔ほか〕共著(工業調査会, 1997.7)
著者典拠ID：
DA0549966X


1.

図書
図書
1. 薄膜作製応用ハンドブック
多賀康訓 [ほか] 編集委員
出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 1995.11
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2.

図書
図書
2. イオン工学技術の基礎と応用
平尾孝 [ほか] 共著
出版情報: 東京 : 工業調査会, 1992.4
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